Gesellschafterwechsel beim Technologie-Joint-Venture XTREME technologies.
Tokio, Jena, Göttingen,
14. Juli 2005
Das Technologie-Joint-Venture der Jenoptik XTREME technologies hat einen neuen Gesellschafter. Der japanische Lichtspezialist USHIO Incorporation (Tokio) hat zum 8. Juli dieses Jahres von der Lambda Physik AG, Göttingen, alle Anteile an XTREME technologies GmbH übernommen.
Bereits Ende vergangenen Jahres hatte die Coherent-Tochtergesellschaft Lambda Physik AG, bisheriger Partner der Jenoptik bei der Entwicklung leistungsfähiger EUV-Strahlquellen, bekannt gegeben, die zukünftigen Entwicklungsaktivitäten im Lithographiebereich und somit auch das Engagement bei XTREME einzustellen und sich auf ihre Kernmärkte Industrie, Wissenschaft und OEM-Geschäft im medizinischen Bereich zu konzentrieren. Der japanische Technologiekonzern USHIO Inc. mit Hauptsitz in Tokio, Japan, hat nun sämtliche Anteile an XTREME von Lambda Physik übernommen. Die restlichen 50 Prozent an dem Forschungsunternehmen, das in Jena und Göttingen zu Hause ist, hält weiterhin die Jenoptik-Tochter JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH, Jena.
USHIO ist Japans führender Produzent von hochwertigen Lichtquellen, Bauteilen und Systemen. USHIO hält 80 Prozent des Weltmarktes bei Lampen für den photolithografischen Prozess. Die Tochtergesellschaft Gigaphoton entwickelt Excimer-Laser für die Laser-Lithografie für die Wellenlängen 248 und 193 Nanometer. Der Technologiekonzern USHIO besitzt seit 2002 eine eigene Forschung für EUV-Quellenentwicklung und somit umfangreiches Know-how auf diesem Gebiet. Entwickelt werden bei USHIO ebenfalls Gasentladungsplasmaquellen im Rahmen des Forschungsprogramms EUVA, das die japanische Regierung fördert. Durch die Synergien und die nun gemeinsame Entwicklung leistungsfähiger EUV-Strahlquellen wollen Jenoptik und USHIO gemeinsam im Unternehmen XTREME technologies die EUV-Quellen für einen Einsatz in der Halbleitermassenfertigung weiter vorantreiben.
XTREME mit leistungsfähigsten EUV-Strahlquellen weltweit. Strahlquellen und Messtechnik aus einer Hand.
"Für XTREME technologies ist die Beteiligung und enge Zusammenarbeit mit USHIO ein wichtiger strategischer Meilenstein, der die führende Position des Unternehmens in der EUV-Quellentechnologie weiter ausbaut. Durch den neuen Partner wird internationales Know-how rund um die EUV-Entwicklung eingebracht. Unser Zugang zum asiatischen Markt, der namhafte Halbleiterausrüster beheimatet, wird weiter ausgebaut," sagte Dr. Uwe Stamm, Geschäftsführer der XTREME technologies GmbH. Die Quellenentwicklung wird durch XTREME nun sowohl in Deutschland als auch arbeitsteilig im Rahmen einer Kooperation durch USHIO in Japan durchgeführt.
Mit einer EUV-Strahlung von 50 Watt Leistung erzeugte XTREME technologies in 2004 die höchste EUV-Leistung weltweit bei einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern. Strahlquellen von XTREME sind in der Industrie als "Technologiepfadfinder" bereits im Einsatz.
Der Umgang mit EUV-Technologie erfordert höchste Präzision. Die dazu erforderliche Messtechnik, die in der Jenoptik-Tochter JENOPTIK Mikrotechnik GmbH entwickelt und gefertigt wurde, hat nun die XTREME technologies GmbH übernommen. Damit bietet das Unternehmen sowohl die Strahlquellen als auch die darauf abgestimmte Messtechnik aus einer Hand an.
Durch die neue Gesellschafterstruktur aus Jenoptik und USHIO sowie die Übernahme der EUV-Messtechnik der JENOPTIK Mikrotechnik GmbH ist XTREME technologies derzeit nicht nur der technologisch führende Quellenhersteller, sondern auch der weltweit größte Anbieter für EUV-Quellen und EUV-Messtechnik.
Unternehmensporträt XTREME technologies GmbH.
Das Unternehmen wurde im April 2001 als Joint Venture der Firmen Lambda Physik AG, Göttingen, und der JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH, Jena, gegründet mit dem Ziel, leistungsfähige EUV-Strahlquellen für die EUV-Lithographie bereitzustellen. Im Juli 2005 wurden alle Anteile der Lambda Physik AG, Göttingen, von der USHIO Incorporation, Tokio, übernommen. Jenoptik und USHIO halten einen Anteil von je 50 Prozent an der Forschungsgesellschaft, Firmensitz ist Jena und Göttingen. Am Standort Göttingen werden Gasentladungsquellen und am Standort Jena laser-induzierte Plasmen und Gasentladungsquellen entwickelt und gefertigt. 2003 wurde die erste kommerzielle EUV-Quelle entwickelt, die in einen Mikrobelichter der Firma Exitech, Oxford, UK, integriert wurde. Die weltweit ersten Mikrobelichter mit EUV-Quellen von XTREME werden derzeit in der Halbleiterindustrie getestet. Durch den Einsatz sollen Erkenntnisse für die Massen-Chipfertigung mit Hilfe der EUV-Lithographie ab 2009 erzielt werden.
www.xtremetec.com
Unternehmensporträt USHIO, Inc.
USHIO (ISIN: JP3156400008) wurde 1964 gegründet, um Leuchtsysteme und energieverbundene Anwendungen für Licht zu entwickeln. Seitdem hat sich USHIO auf die Entwicklung von Lichtquellen und Bauteilen konzentriert, parallel zur Entwicklung der industriellen Technologien.
USHIO Inc. ist Japans führender Produzent von hochwertigen Lichtquellen, Bauteilen und Systemen. Bekannt wurde USHIO durch die Entwicklung von Produkten, die hochmoderne Beleuchtungstechnologien und Designs integrieren und den Anwendungsanforderungen der Kunden aus Branchen wie der Halbleiterindustrie, Elektronik und Bildverarbeitung bis hin zu Biotechnologie und Medizin entsprechen. USHIO unterhält Produktionsstätten in Japan, Nordamerika, Europa und Asien, die durch ein weltweites Vertriebsnetz ergänzt werden.
Da der Markt für Lichtquellen und ihre Anwendungen wächst, expandiert USHIO mit den hochspezialisierten Firmen der Gruppe in immer mehr Länder und Regionen. Auf Grund der internen Synergien der USHIO-Gruppe ist das Unternehmen in der Lage, ein breites Portfolio hochwertiger Lichtquellen, deren Applikationen sowie Dienstleistungen, die für die Produzenten von großer Bedeutung sind, herzustellen und zu vermarkten. Ziel der USHIO-Gruppe ist es, der weltweit führende Anbieter für Beleuchtungen und Beleuchtungstechnologien zu sein.
Die USHIO-Gruppe erzielte im Geschäftsjahr 2004/2005 (Geschäftsjahresende März 05) mit 4.500 Mitarbeitern einen Umsatz von rund 890 Mio. Euro.
www.ushio.co.jp
Porträt JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH.
In den Bereichen Lasertechnik, Optik und Sensorsysteme entwickelt, fertigt und vertreibt die JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH Laserstrahlquellen, optische Komponenten, Module und Systemlösungen sowie Technologien zum präzisen Messen, Abbilden, Strukturieren und Analysieren unterschiedlicher Materialien. Neuste Technologien und kundenspezifische Applikationen bilden den Grundstein für den Erfolg des Unternehmens. Die JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH wurde 1995 gegründet und ist ein 100-prozentiges Tochterunternehmen des Technologiekonzerns JENOPTIK AG, Jena, (ISIN DE 0006229107) im Unternehmensbereich Photonics. Der Umsatz des Unternehmensbereiches Photonics stieg von 280 Millionen Euro im Jahr 2003 auf knapp 360 Millionen Euro im Geschäftsjahr 2004; das Betriebsergebnis des Unternehmensbereiches erreichte mit 34,5 Millionen Euro einen neuen Rekord. Rund 2.600 Mitarbeiter arbeiten in den Bereichen Laser, Hochleistungs-Optiken, Sensorik und Mechatronik. Jenoptik entwickelt, fertigt und vertreibt photonische Komponenten, Module und Systemlösungen bis hin zu kompletten Anlagen und macht Licht als Industriewerkzeug nutzbar.
www.jenoptik-los.com
