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Die XTREME technologies GmbH, das Nanotechnologie Joint Venture der JENOPTIK AG (WKN 622 910) und der Lambda Physik AG (WKN 549 427), hat den ersten Prototypen einer EUV-Strahlquelle ausgeliefert. Strahlquellen im extremen Ultraviolettbereich (EUV) werden zukünftig zur Herstellung noch leistungsfähiger Chipgenerationen eingesetzt. Auftraggeber ist der britische Mikrostepper-Hersteller Exitech, mit dem im Rahmen einer strategischen Forschungspartnerschaft die Entwicklung für den Halbleitereinsatz vorangetrieben wird.
Die EUV-Technologie wird voraussichtlich gegen Ende des Jahrzehnts für die Herstellung besonders leistungsfähiger Computerchips der übernächsten Generation benötigt. Während die ab 2006/2007 in der Chipproduktion eingesetzten 157 Nanometer-Laser Strukturgrößen von unter 50 Nanometer erreichen werden, können mit der nachfolgenden EUV-Technologie noch feinere Strukturgrößen von 30 Nanometer und darunter erzeugt werden.
EUV-Strahlquellen gelten heute unter den Experten als die kritischsten Komponenten der EUV-Technologie. Dass XTREME technologies bereits jetzt den ersten Prototypen ausliefern kann, gilt als wichtiger Meilenstein in der Entwicklung der EUV-Lithographie und unterstreicht die technologisch führende Position des Joint Ventures, an dem die JENOPTIK AG und die Lambda Physik AG jeweils 50 Prozent halten.
Die EUV-Strahlquelle besitzt die weltweit höchste Effizienz. Sie nutzt eine gepulste elektrische Hochleistungsentladung und den so genannten Pinch-Effekt zur Erzeugung des ca. 200 Tausend Grad Celsius heißen Plasmas, welches die EUV-Strahlung abgibt.
Mit der Fertigstellung des EUV-Prototypen konnte der bei Gründung der Gesellschaft im Jahre 2001 erwartete Zeitplan deutlich unterschritten werden. Ursprünglich wurden erste Umsätze erst für das Jahr 2006 erwartet.
"Wir haben uns für XTREME technologies entschieden, weil diese die derzeit leistungsstärkste und stabilste EUV-Strahlquelle weltweit anbieten," erläutert Dr. Malcom Gower, Präsident der Exitech Ltd. in Oxford, GB. "Der EUV-Mikrostepper wird in der ersten Testphase der übernächsten Generation optischer Lithographiesysteme eingesetzt. Diese beginnt bereits 3 bis 5 Jahre vor dem eigentlichen Einsatz in der Chipproduktion."
Exitech Ltd. ist ein führender Hersteller von Laserproduktionssystemen für die Mikromaterialbearbeitung in der Halbleiterindustrie, der Mikroelektronik, der Flachbildschirm- und Computerindustrie, der Photonik, der Telekommunikation und der Biomedizin. Exitech wurde 1984 gegründet und war das erste Unternehmen, das die Mikromaterialbearbeitung durch Lasertechnologie in die kommerzielle Anwendung überführt hat. Seit 1994 hat Exitech eine Reihe von Mikrosteppern der Wellenlängen 248 Nanometer, 193 Nanometer und 157 Nanometer an die Halbleiterindustrie geliefert. Exitech ist zudem Lieferant von Mikrosteppern für die Konsortien International SEMATECH, Austin, Texas und SELETE, Tsuba, Tokyo. Mit Hauptsitz in Oxford, England ist Exitech mit Tochterunternehmen in Foster City, Kalifornien und Tokyo, Japan weltweit vertreten.
Die JENOPTIK AG (WKN 622910) ist ein weltweit tätiger Technologiekonzern mit Sitz in Jena. Sie konzentriert sich auf die wachstumsstarken Unternehmensbereiche Clean Systems Technologies und Photonics Technologies. Das Unternehmen ist 1991 aus der JENOPTIK Carl Zeiss JENA GmbH hervorgegangen. Seit Juni 1998 ist die JENOPTIK AG an der Frankfurter Wertpapierbörse notiert und wird im TecDax geführt.
AG Lambda Physik zählt zu den Pionieren und weltweit führenden Unternehmen in der Entwicklung und Herstellung gepulster UV-Laser wie Excimerlaser, diodengepumpter Festkörperlaser und Farbstofflaser. Das 1971 gegründete Unternehmen ist alleiniger bzw. führender Anbieter in Wachstumsmärkten für Anwendungen im Bereich der Industrie, Wissenschaft und Medizin und zu einem bedeutenden Anbieter in der Mikrolithographie avanciert. Zum Konzern gehören Tochtergesellschaften in den USA, Japan und Deutschland.