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Strategischer Meilenstein in der Entwicklung von EUV-Strahlquellen für die Halbleiterlithografie.
Das Technologie-Joint-Venture der JENOPTIK AG und der USHIO Inc., die XTREME technologies GmbH, Göttingen/Jena, hat eine Finanzierung von Intel Capital, dem strategischen Investment-Bereich der Intel Corporation erhalten, um die Entwicklung seiner extrem ultravioletten (EUV) Lichtquellen für die Fotolithografie zu beschleunigen. Ein entsprechender strategischer Investmentvertrag wurde Ende Dezember 2005 unterzeichnet.
Die Beteiligung von Intel Capital ist für XTREME technologies ein äußerst wichtiger strategischer Meilenstein, der die Entwicklung ihrer Strahlquellen für die Halbleiterlithografie unterstützt. EUV-Strahlquellen gelten als eines der entscheidenden Elemente bei der Entwicklung der EUV-Lithographie für die Chipproduktion. "Dieses Investment ermöglicht es uns, unser Entwicklungsprogramm auszuweiten und unsere führende Position auf dem sich neu entwickelnden EUV Markt zu stärken", sagte Dr. Uwe Stamm, Geschäftsführer der XTREME technologies GmbH.
"Intel Capital investiert weltweit in innovative Unternehmen, die im Bereich der Ausrüstung für die Halbleiterherstellung tätig sind", sagte Keith Larson, Geschäftsführer von Intel Capital. "Ziel der Finanzierung von XTREME technologies durch Intel Capital ist es, die Entwicklung und Vermarktung von EUV-Strahlquellen für produktionstaugliche fotolithografische EUV-Anlagen zu beschleunigen."
Als Lithografie wird die Technik bezeichnet, mit der Schaltkreisstrukturen auf Halbleiterchips übertragen werden. Um die Dichte von Transistoren auf einem Computerchip immer weiter zu erhöhen, müssen die Halbleiterhersteller in der Lage sein, immer kleinere Strukturen aufzutragen. Entsprechend dem Internationalen Technologieplan für Halbleiter ITRS (International Technology Roadmap for Semiconductors) wird die EUV-Lithographie entwickelt, da die gegenwärtig in der Chipfertigung eingesetzte Ultraviolett-Lithographie die extrem kleinen Strukturen von Transistoren und anderen Schaltkreiselementen auf dem Chip, die in den nächsten Jahren erforderlich werden, nicht mehr herstellen kann. Im Gegensatz zur heutigen Lithografietechnik, die Licht mit einer Wellenlänge von 193 Nanometern einsetzt, wird bei der EUV-Lithografie Licht mit einer sehr kurzen Wellenlänge von nur 13,5 Nanometern verwendet. ITRS sagt vorher, dass die EUV-Lithografie gegen Ende dieses Jahrzehnts beginnt, die heute üblichen Lithografieverfahren bei der Fertigung von High-End Halbleiterchips mit kritischen Strukturbreiten von 32 Nanometern und kleiner abzulösen.
Das Unternehmen wurde im April 2001 als Joint Venture zwischen der Lambda Physik AG, Göttingen und der JENOPTIK Laser, Optik, Systeme GmbH, Jena gegründet mit dem Ziel, effiziente EUV Lichtquellen für die EUV Lithografie bereit zu stellen. Im Juli 2005 erwarb USHIO Inc., Tokyo, alle Anteile von der Lambda Physik AG, Göttingen. Jenoptik und USHIO halten jeder je 50 Prozent der Anteile des Technologieunternehmens mit Sitz in Jena und Niederlassung in Göttingen. Am Standort Göttingen werden Gasentladungsplasma- EUV-Quellen entwickelt und gefertigt, in Jena werden sowohl Laserplasma- als auch Gasentladungsplasma-EUV-Quellen untersucht. In Jahre 2003 wurde die erste kommerzielle EUV-Quelle ausgeliefert, die in Mikrobelichter der Firma Exitech, Oxford, UK, integriert wurde. Die weltweit ersten Mikrobelichter mit EUV-Quellen von XTREME technologies werden derzeit in der Halbleiterindustrie zur Prozessentwicklung eingesetzt. Weitere Informationen zur XTREME technologies GmbH finden Sie unter www.xtremetec.com.
Intel Capital, das strategische Investmentprogramm von Intel, konzentriert sich auf Minderheitskapitalinvestitionen im Bereich der Internet-Branche, um deren Wachstum entsprechend den strategischen Interessen Intels zu unterstützen. Intel Capital investiert in Hardware, Software und Dienstleistungsunternehmen in verschiedenen Marktsegmenten, einschließlich EDV, Netzwerkbetrieb und kabellose Kommunikation. Intel Capital hat seit 1991 mehr als 4 Milliarden US$ in etwa 1.000 Firmen aus mehr als 30 Ländern investiert. Seit Beginn wurden ca. 160 Portfolio-Firmen von anderen Firmen akquiriert. Weitere 150 Firmen gingen an die verschiedenen Börsen in der Welt. Intel Capital beschäftigt Investmentmanager in etwa 25 Ländern weltweit. Etwa 40 Prozent der Investitionen wurden außerhalb der USA getätigt. Weitere Informationen zu Intel Capital finden Sie unter www.intel.com/capital.