50 Mann stark forscht das Entwicklerteam der XTREME technologies GmbH in Göttingen und Jena an einer Gasentladungsplasmaquelle für das extrem ultraviolette (EUV) Spektrum. Seit die Arbeiten im Jahr 2000 begonnen haben, nähert sich das Unternehmen Schritt für Schritt der Chipproduktion der Zukunft: Die Wellenlängen des ultravioletten Lichts sind bald nicht mehr kurz genug, um die immer kleineren Chipstrukturen herstellen zu können. Deshalb wird ab voraussichtlich 2009 in das extrem-ultraviolette Spektrum  übergegangen, das nahe der weichen Röntgenstrahlung liegt.

Nachgewiesen wurde das Funktionsprinzip unter Laborbedingungen, als mit einer  Gasentladungsplasmaquelle kurzzeitig eine Leistung von 800 Watt erreicht wurde. Das ist die höchste Ausgangsleistung, die weltweit bei 13,5 Nanometern jemals erzeugt worden ist und nahe dem Wert, der aus derzeitiger Sicht für die industrielle Fertigung nötig ist.

Geht es nach der Semiconductor Roadmap, in der die Halbleiterindustrie ihre nächsten Schritte festschreibt, wird EUV ab 2009 in der Massenproduktion eingesetzt - ein ehrgeiziges Ziel, an dem die XTREME technologies GmbH mit Hochdruck arbeitet. Um die Prozesse zu evaluieren, haben im Jahr 2005 sowohl Intel als auch das Halbleiterkonsortium International SEMATECH die ersten Mikrobelichter in Betrieb genommen - sie kommen von der britischen Firma Exitech und sind mit EUV-Quellen von XTREME technologies bestückt.

• XTREME technologies GmbH.