Bestimmte Prozesse in der Fertigung von Halbleiterbauelementen wie z.B. das Aktivieren von Dotierstoffen verlangen hohe Temperaturen. Befinden sich gleichzeitig temperaturempfindliche Strukturen oder Materialien auf dem Wafer ist das lokale Erwärmen mittels Laser meist der einzige Weg das gewünschte Prozessergebnis zu erreichen, ohne andere Bereiche zu schädigen.
Mit der JENOPTIK-VOTAN™ Semi 700 bietet die Jenoptik eine Lasermaschine an, die für derartige Anwendungen z.B. bei der Herstellung von Power-Transistoren oder CMOS-Image-Sensoren entwickelt wurde. Dabei zeichnet sich die Anlage durch eine exzellente Uniformität des Prozesses und hohe Flexibilität bezüglich verschiedener Prozessanforderungen aus.